172nm晶圆光清洗计划 助力半导体国产代替

  在半导体制作中，清洗工艺贯穿于光刻、刻蚀、堆积等要害流程，并在单晶硅片制备阶段发挥着及其重要的效果。随技能的开展，芯片制程已推动至28nm、14nm甚至更先进节点。

  晶圆对细小污染物的敏感性也明显地增强。每一道工序前，晶圆外表都需铲除颗粒、有机物、金属杂质和氧化层等污染物，以保证后续制程的顺利进行。以7nm及以下制程工艺为例，若晶圆外表每平方厘米存在超越3个0.5nm粒子，良率或许下降12%-18%。

  晶圆外表清洗作为先进制程中的要害工序，正朝着高效、低损的方向不断演进。针对纳米级有机污染物，172nm准分子紫外光清洗技能供给了一种非触摸、高精清洁的解决计划，渐渐的变成为职业使用和技能开展的要点方向。

  但是，该技能所依托的172nm准分子光源长时间依托进口，面对本钱高、供给不安稳、技能封闭等问题。跟着全球产业链重构和供给链安全意识提高，国产代替需求更加火急。

  该技能经过172nm高能紫外光激起有机物产生自由基，并与氧自由基产生光敏氧化反响，能有用将污染物分解为水和二氧化碳，从而到达原子级洁净度。

  该模组专为晶圆光清洗规划，可高效去除纳米级有机污染物和残留胶质，提高后续镀膜/键合等工艺良率。

  √ 长寿命规划：经过阴极资料优化和气体配比操控，保证2500小时安稳输出。

  广明源深耕光科技使用的研制与制作二十多年，专心172nm准分子光源及设备/模组的研制，掩盖光清洗、光固化、光改性、纯水处理等多个要害范畴。依托老练的研制立异、设备规划与定制才能，广明源可供给从试验验证到量产阶段所需的核心光部件与解决计划，助力国内高端制作完成自主可控，保证产业链安全安稳。